ISSN:0914-9244
研究方向:化学
出版周期:Semiannual
是否OA:No
国际简称:J PHOTOPOLYM SCI TEC
创刊时间:1988
年发文量:111
出版地:JAPAN
官网:https://www.jstage.jst.go.jp/browse/photopolymer/
偏慢,4-8周审稿时间
容易平均录用比例
0.7影响因子
高分子科学小学科
90/94JIF RANK
1158总被引频次
由光聚合物科学与技术协会(SPST)出版学科领域物理化学一般工程纳米科学与材料科学电工电子工程
Published by The Society of Photopolymer Science and Technology(SPST) Subject AreaPhysicsChemistryEngineering in GeneralNanosciences and Materials SciencesElectrical and Electronic Engineering