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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS SCISCIE

日本应用物理学杂志

0021-4922

物理

Monthly

No

1347-4065

JPN J APPL PHYS

1147

JAPAN

http://jjap.jsap.jp/

约2.0个月审稿时间

4区中科院分区

66%平均录用比例

1.471影响因子

物理:应用小学科

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SCI三剑客

中文简介

《日本应用物理学杂志》(JJAP)是一本促进和传播应用物理学各领域知识的国际期刊。JJAP是《应用物理快报》(APEX)的姊妹期刊,由IOP出版有限公司代表日本应用物理学会(JSAP)出版。JJAP发表的文章对物理原理的应用以及针对特定应用的物理理解方面的进步做出了重大贡献。JJAP涵盖的主题包括以下字段:半导体、介质和有机材料光子学、量子电子学、光学和光谱学自旋电子学、超导性和强相关材料设备物理包括量子信息处理基于物理的电路和系统纳米科技晶体生长、表面、界面、薄膜和块状材料等离子体,应用原子和分子物理,以及应用核物理设备加工、制造和测量技术以及仪器仪表跨学科领域,如生物电子/光子学、生物传感、环境/能源技术和MEMS

http://jjap.jsap.jp/authors/submission.html

英文简介

The Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) is an international journal for the advancement and dissemination of knowledge in all fields of applied physics. JJAP is a sister journal of the Applied Physics Express (APEX) and is published by IOP Publishing Ltd on behalf of the Japan Society of Applied Physics (JSAP).JJAP publishes articles that significantly contribute to the advancements in the applications of physical principles as well as in the understanding of physics in view of particular applications in mind. Subjects covered by JJAP include the following fields:Semiconductors, dielectrics, and organic materialsPhotonics, quantum electronics, optics, and spectroscopySpintronics, superconductivity, and strongly correlated materialsDevice physics including quantum information processingPhysics-based circuits and systemsNanoscale science and technologyCrystal growth, surfaces, interfaces, thin films, and bulk materialsPlasmas, applied atomic and molecular physics, and applied nuclear physicsDevice processing, fabrication and measurement technologies, and instrumentationCross-disciplinary areas such as bioelectronics/photonics, biosensing, environmental/energy technologies, and MEMS

中科院分区(数据版本:2021年12月最新升级版)

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JCR分区

JCR分区等级 JCR所属学科 分区 影响因子
Q4 PHYSICS, APPLIED Q4 1.491

CiteScore数值

CiteScore SJR SNIP 学科类别 分区 排名 百分位
3.00 0.444 0.612 大类:Engineering 小类:General Engineering Q2 98 / 300

67%

大类:Engineering 小类:General Physics and Astronomy Q2 106 / 240

56%

SCI服务流程
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H-index

影响因子 h-index Gold OA文章占比 研究类文章占比 OA开放访问 平均审稿速度
1.491 116 5.30% 94.58% 未开放 约2.0个月

自引率趋势图

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS自引率趋势图27.528.328.127.724.72219.7JPN J APPL PHYS2015年2016年2017年2018年2019年2020年2021年17.52022.52527.530影响因子(Impactor)月期刊网(yueqikan.com)

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